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用選定的圖像、圖形或物體，對(duì)處理的圖像（全部或局部）進(jìn)行遮擋，來控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。用于覆蓋的特定圖像或物體稱為掩?；蚰０濉９鈱W(xué)圖像處理中，掩模可以是膠片、濾光片等。數(shù)字圖像處理中，掩模為二維矩陣數(shù)組，有時(shí)也用多值圖像。

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使用鉻刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護(hù)的鉻層不會(huì)被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。

在有必要的情況下，制版報(bào)價(jià)，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，徐州制版，并對(duì)掩膜版進(jìn)行清洗。

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光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng)，選用方解石是因?yàn)槠涞慕贤饩€穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有時(shí)候也叫鉻板。選用燈的g線應(yīng)i線，在于你常用的光刻膠，每個(gè)光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。