蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。蝕刻技術可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類。它可通過***制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工；經過不斷改良和工藝設備發(fā)展，亦可以用于航空、機械、化學工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產品的加工，特別在半導體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術。

    金屬蝕刻表層的光滑度對蝕刻工藝的危害較為大，表層不光滑時，不需蝕刻工藝的一部分刷涂的耐腐蝕膠難以消除整潔，必須蝕刻工藝的位置因為表層不光滑，蝕刻工藝出去的刻線也不光滑高低不平，因此在蝕刻工藝以前，金屬表層 要開展打磨拋光，能夠依據(jù)狀況及對商品的規(guī)定制訂出打磨拋光的計劃方案及采用方式，西藏紫銅蝕刻腐蝕，實際可參照第二章打磨拋光一部分。

透明導電膜在高透光下同時具有導電性，紫銅蝕刻腐蝕公司，是光電領域中不可或缺的重要工業(yè)基礎材料。隨著光電子器件逐漸向大尺寸、輕薄、柔性、低成本方向發(fā)展，對高性的柔性及可拉伸透明導電膜的需求增長迅速。當前廣泛使用的透明導電材料主要為ITO膜或玻璃，但因方阻較高、脆性結構限制了其在柔性光電器件上的使用；而新發(fā)展的基于導電聚合物、碳材料和金屬納米材料的柔性透明導電膜，普遍存在導電性和透過率相互制約的問題，在85%以上的透過率下方阻通常在數(shù)十歐每方塊以上。基于銅箔黃光制程蝕刻的金屬網(wǎng)格透明導電膜具有高導高透的優(yōu)點受到了行業(yè)廣泛關注，但工藝復雜，酸蝕刻工藝與銅離子造成的污染及其高成本也不容忽視。

中國學院蘇州納米技術與納米仿生研究所研究員崔錚的印刷電子研究團隊自主研發(fā)了印刷增材制造的嵌入式銀網(wǎng)格透明導電膜，透過率和導電性可以***調節(jié)，紫銅蝕刻腐蝕加工，在85%以上透過率下方阻低于10Ω/□，已成功應用在觸摸屏上并實現(xiàn)了產業(yè)化，曾榮獲2014年中國金獎。為進一步推廣印刷金屬網(wǎng)格透明導電膜在透明導磁屏蔽、電加熱膜、透明5G天線等更廣領域的應用，如何進一步在高透過率下大幅度提升導電膜的導電性能成為團隊的重要研究目標。近日，蘇州納米所印刷電子中心蘇文明團隊基于混合式印刷增材制造技術，優(yōu)化壓印模具結構參數(shù)，實現(xiàn)了2：1深寬比和4μm線寬的凹槽結構，再結合刮填薄層納米銀油墨的種子層，用電籌沉銅技術在凹槽中填滿致密的銅。由于電沉積過程金屬銅完全限制在凹槽中只能單向生長，紫銅蝕刻腐蝕多少錢，避免了擴線，從而獲得高深寬比的銅網(wǎng)格，因而在不影響光透過率的情況下增加了金屬網(wǎng)格的厚度，同時電鍍的網(wǎng)格具有銅本征的高電導，在86%的高透光率下，方塊電阻低至0.03Ω/□，F(xiàn)OM值超過80000，達際領水平（FOM是透明導電膜的綜合質量因素，指光透過與方阻的比值，如ITO的FOM<300）。

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