氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。

第二段b（曲線bc段）：多孔層形成。隨著氧化膜的生成，電解液對膜的溶解作用也就開始了。由于生成的氧化膜并不均勻，在膜很薄的地方將首先被溶解出空穴來，電解液就可以通過這些空穴到達(dá)鋁的新鮮表面，電化學(xué)反應(yīng)得以繼續(xù)進行，電阻減小，電壓隨之下降（下降幅度為至高值的10～15%），膜上出現(xiàn)多孔層。

影響陽極氧化氧化膜質(zhì)量的因素主要有：

氧化時間：氧化時間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下，當(dāng)電流密度恒定時，膜的生長速度與氧化時間成正比；但當(dāng)膜生長到一定厚度時，由于膜電阻升高，影響導(dǎo)電能力，鋁氧化生產(chǎn)廠家，而且由于溫升，鋁氧化價格，膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會逐漸降低，到后面不再增加。

工藝鋁及其鋁合金陽極氧化的方法很多，鋁氧化加工，常用的有***陽極氧化、鉻酸陽極氧化、草酸陽極氧化、硬質(zhì)陽極氧化和瓷質(zhì)陽極氧化。***在稀***電解液中通以直流和交流電對鋁及其合金進行陽極氧化處理，可獲得5～20微米厚，徐州鋁氧化，吸附性較好的無色透明氧化膜。***陽極氧化工藝簡單，溶液穩(wěn)定，操作方便，允許雜質(zhì)含量范圍較寬，電能消耗少，成本低，且?guī)缀蹩梢赃m用于鋁及各種鋁合金的加工，所以在國內(nèi)已得到了廣泛的應(yīng)用。