ntroduction to PVD Technology

        真空鍍膜是在真空中把真空中的鈦，金，石墨，水晶之類的金屬或非金屬，***體等材料利用濺射，蒸***，等離子體等技術，在基材上***成薄膜的一種表面***理過程。與傳統(tǒng)化***鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多的優(yōu)點：如對環(huán)境***汚染，是***色環(huán)保工藝，對操作者***傷害，鍍層牢固，膜層致密性好，均勻抗腐蝕性強及耐磨性高！

       真空鍍膜技術中經常使用的方法主要有：蒸***鍍膜（包括***弧蒸***，***子***蒸***，***阻絲蒸***等）；濺射鍍膜（包括直流磁控濺射，中頻磁濺射，射頻濺射等技術），這些方法統(tǒng)稱為物理***相沉積（Physical Vapor Deposition),簡稱PVD 。與之相對應的化******相沉積（Chemical Vapor Deposition)  簡稱為 CVD 技術。

       行***內通常所說的“IP”（ION PLATING）  離子鍍膜，是對PVD技術中由各種菜***體離子和金屬離子參與成膜過程並在其中起到重要作用，為了強調離子的作用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。也可以相對的認為IP技術是PVD的另一種稱呼！