本公司供應真空烤盤爐,本設備為一種新型的真空烤盤爐,爐內抽真空,被處理工件放置在爐膛內,采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。 主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化***和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提到制品質量的目的。 產(chǎn)品優(yōu)勢 1、價格優(yōu)勢 2、***的清洗雜質能力,大大延長了承受器的使用壽命。 3、獨特的系統(tǒng)設計,全自動化的操作方法。 4、提供快速反應的優(yōu)勢***并有大量LED客戶安裝的豐富經(jīng)驗 如有需要,請聯(lián)系!
