恩科優(yōu)光刻機(jī)產(chǎn)品詳細(xì)資料：

品牌：恩科優(yōu)（N&Q）

產(chǎn)地：美國(guó)                                                                     

       恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N&Q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，現(xiàn)代***的接近式和接觸式光刻及超高的性價(jià)比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被***各地眾多***企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的***；

二、技術(shù)參數(shù)：

1、芯片尺寸：5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片（支持對(duì)不規(guī)則碎片的特殊卡盤設(shè)計(jì)）；

2、***波長(zhǎng)：350nm-450nm（其它波長(zhǎng)可選配）；

3、***燈功率：350W/500W（其它功率可選配）；

4、分辨率：優(yōu)于0.5um；

5、***模式：支持接近式***，各種接觸式（真空接觸、軟接觸、硬接觸等）***；

6、出射光強(qiáng)范圍：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；

7、支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式；

8、***時(shí)間：0.1~999.9s；

9、對(duì)準(zhǔn)精度：雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監(jiān)視器，對(duì)準(zhǔn)精度可達(dá)到0.4微米內(nèi)；

10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器)；

關(guān)于恩科優(yōu)光刻機(jī)產(chǎn)品信息查詢：http://.cn/mycro-Products-5368640/

有關(guān)德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)產(chǎn)品請(qǐng)?jiān)L問：http:///st119375/ml