1﹨鍍膜技能在集成電路制造中的運(yùn)用
晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線等多是選用CVD技能、PVCD技能、真空蒸騰金屬技能、磁控濺射技能和射頻濺射技能?？梢姎庀喽逊e術(shù)制備集成電路的核心技能之一。
2﹨鍍膜技能在裝飾品方面的運(yùn)用
跟著經(jīng)濟(jì)的開展和生活水平的進(jìn)步，大家喜愛將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室表里裝飾件、五金箱包、手機(jī)殼、手機(jī)視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五光十色。
真空鍍膜
光學(xué)鍍膜機(jī)維護(hù)與***
光學(xué)鍍膜機(jī)主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組限及電柜（控制電柜、電子槍電樞）組成，東莞鍍膜廠，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設(shè)備在防止油污染和縮短工作周期等方面具有***的性能。
光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋牧鲜軣岷笳舭l(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，鍍膜廠家，碰到基片就沉積在基片表面形成臘層。
光學(xué)鍍膜機(jī)維護(hù)與***主要包換電子槍安裝與維護(hù)、光路的檢修與維護(hù)、設(shè)備的清洗與***。
真空電鍍與水電鍍相比有哪些優(yōu)缺點(diǎn)
真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。真空離子鍍，又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法，做出來的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高．而相對其他的鍍膜法來說，成本較低，對環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用。
水電鍍因工藝較簡單，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍苛刻，從而被廣泛應(yīng)用.但水電鍍有個弱點(diǎn)，只能鍍ABS料和ABS PC料（此料鍍的效果也不是很理想）。而ABS料耐溫只有80℃，這使得它的應(yīng)用范圍被限制了。而真空電鍍可達(dá)200℃左右，這對使用在高溫的部件就可以進(jìn)行電鍍處理了。像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)使用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫。一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在***后噴一層UV油，這樣使得產(chǎn)品表面即有光澤、有耐高溫、同時又保證附著力。 兩種工藝的優(yōu)缺點(diǎn)：
A、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價鉻”，這是非環(huán)保材料.對于“六價鉻”。如此嚴(yán)格的要求，國內(nèi)一些廠家已開始嘗試使用“三價鉻”來替代“六價鉻”；而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合環(huán)保要求。
簡單一點(diǎn)，就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過等離子體離化后沉積在工件表面的表面處理技術(shù)。它有真空蒸發(fā)鍍，濺射鍍，離子鍍等，獲得這些沉積方法的途徑有多種：電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射頻建設(shè)、脈沖濺射、微波增強(qiáng)等離子體、多弧等等很多種方法，可以根據(jù)的需求和經(jīng)濟(jì)技術(shù)條件考慮選用的涂層設(shè)備
B、簡單來說，真空電鍍不過UV油，其附著力很差，無法過百格TEST，而水電鍍的明顯好于真空電鍍！因此，為保證真空電鍍的附著力，鍍膜，均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理，成本當(dāng)然高些?！ ?/p>
C、水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就無能為力了。而真空電鍍可以解決七彩色的問題。
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